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ASML、佳能、尼康密集扩产光刻设备
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事件综述
10月21日，佳能披露明年半导体光刻设备产量最高将接近今年的两倍。ASML在三季度财报中披露，客户对2027年、2028年设备的需求已超出现有扩产计划，并计划明年将低数值孔径EUV和浸没式DUV产能各提高30%。据钛媒体报道，ASML已对主要客户完成提价谈判，佳能、尼康也在密集扩产光刻设备。目前各厂商扩产计划已公开，提价谈判结果由单一媒体报道，尚待更多信源核实。
根据公开报道整理 · 2 小时前更新
最新进展10月24日 12:26
佳能称明年光刻设备产量最高近翻倍，ASML计划EUV与DUV产能各增30%。报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月24日
- 钛媒体公开报道ASML、佳能、尼康密集扩产光刻设备，ASML对主要客户完成提价谈判
10月21日佳能披露明年半导体光刻设备产量最高将接近今年的两倍，ASML在三季度财报中披露客户对2027年、2028年设备需求已超出现有扩产计划，并计划明年将低数值孔径EUV和浸没式DUV产能各提高30%。
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